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反滲透純水設備脫鹽率過快下降的原因
來源:http://www.xamz.com.cn/發(fā)布時間:2019年11月15日

  在脫鹽水處理設備中,采用反滲透膜進行脫鹽處理是目前最實用技術。反滲透設備運行中,經常發(fā)現反滲透純水設備出現脫鹽率下降過快的情況,那么脫鹽率過快下降的原因有哪些呢?

  一、高壓差導致脫鹽率下降

  壓差升高同時往往伴隨著脫鹽率快速下降。在正常的流量下,壓差的上升通常是由于膜元件水流量通道的隔網進入雜質,污染物質和水垢引起的,導致產水流量的下降。當超過設定的給水流量時,也會發(fā)生過大的壓差,當啟動時給水壓力提升過快,發(fā)生水錘壓差會很大,如果膜已經被污染,特別是微生物污染,壓差也會增大。給水至濃水間的壓差表示的是水力阻力,與給水的流速、溫度有關,應該保持產

  水和濃水有一定的流速。出現高壓差的可能性有:水垢、微生物污染、阻垢劑沉淀、過濾器過濾介質漏、給水/濃水密封損壞。

反滲透純水設備脫鹽率過快下降的原因

  二、在線化學清洗不合理導致脫鹽率下降

  超純水設備在運行中是不可避免被污染。預處理和添加各種要種藥劑只能將反滲透被污染的可能性降到最低,而不能徹底的杜絕。因此,長期運行的反滲透系統(tǒng)在經過一定時間的運行后,必須要充分論證和確認是哪一種污染物。針對聚酰胺膜的特點,可以根據相應的污垢選取適當的清洗劑:

  a、鹽酸(36%-38%),配制成0.12%稀溶液,去除金屬氧化物質。

  b、氫氧化鈉,配制成0.1%的稀溶液,去除二氧化硅、微生物膜、有機物等,pH約為12。作用是對有機微生物粘膜的水解破壞而剝離,對于二氧化硅膠體垢,形成的硅酸鈉為可溶性,從而除垢。

  c、乙二胺四乙酸四鈉,作為螯合劑廣泛應用于工業(yè)清洗,1%水溶液pH10.5-11.5,加入濃度0.5%-1%。

  d、十二烷基磺酸鈉,屬陰離子表面活性劑,目的是分散在溶液中的有機化合物,可使溶液的表面張力降低,引起正吸附,這樣可使溶液表面溶質分子的的濃度大于溶液內部溶質分子的濃度。十二烷基磺酸鈉是反滲透清洗是最主要的表面活性劑,加入濃度為0.025%。

  f、甲醛,甲醛對細菌、真菌、病毒、芽胞及原蟲等皆有極強的殺滅力,加入濃度為0.5%-35。

  三、余氯的控制差導致脫鹽率下降

  次氯酸鈉作為殺菌劑,廣泛應用于純水設備預處理中。在反滲透系統(tǒng)中,為防止反滲透的微生物污染,對反滲透進水要進行氯化處理。用比色計測定余氯,控制余氯的質量濃度在砂過濾器進口處一般為0.5mg/L,不小于0.3mg/L,在反滲透前保安過濾器處應小于0.1mg/L。而聚酰胺類膜的突出問題是防止其被氧化。進水余氯值和強氧化均對其造成不利的影響,必須嚴格控制。因而定期檢測反滲透進水的余氯值極為重要。